水是一種極其強大的力量。我們看到它在陸地上開辟出一條路，形成令人驚嘆的地理特征，如大峽谷。那么，水在您的系統中能做什么呢？超純水系統清潔水 – 保持無顆粒 – 因此可用于制造過程中的清潔和蝕刻，尤其是在半導體行業。

使用超純水的行業會消耗大量超純水。例如，要加工單個晶圓，需要超過 3,000L 的水。因此，了解超純水系統的工作原理、如何維護以及如何充分利用它以保持系統運行并防止產量損失非常重要。

超純水系統可去除水中任何可能對用水對象造成傷害的污染物或污染物。例如，如果水被用來保持物體清潔和無污染，那么含有污染物的水就真的違背了目的。如果使用超純水來蝕刻半導體，那么即使水中存在非常小的顆粒也可能對精密的半導體造成損壞。

雖然我們通常不認為水是臟的（畢竟我們用它來洗手），但超純水系統的工作是真正使水足夠干凈，不會在微環境中造成任何問題。它通過化學反應和物理元素（如過濾器）的復雜混合物，通過 3 個階段來實現：預處理、初級和精制。

超純水系統分為三個階段：預處理、初級和精制。

在預處理階段，您可以獲得基本的純凈水。根據您的系統，您可以使用兩通道反滲透、脫鹽和反滲透或高效反滲透 （HERO）。此外，還可以清除水中容易被過濾器捕獲的任何大碎屑。此階段還可能加入活性炭或亞硫酸氫鈉來對水進行脫氯。

接下來，水進入初級處理階段。在此階段，水在紫外線下通過，并進行電去離子或混合床離子，以實現最大的脫鹽效果。要完成此步驟，您可以使用膜或真空脫氣去除溶解氧。

最后，也是最重要（但有時昂貴）的一步是創造超純水。在這個階段，紫外線和熱交換用于控制超純水供應中的溫度。然后，使用不可再生離子交換與膜脫氣和超濾相結合，真正將水過濾到必要的顆粒水平。

經過這三個階段后，超純水就可以在您的系統中使用了。

有許多行業使用超純水系統。最常見的一種是半導體行業 – 使用超純水進行清潔和蝕刻。在半導體行業，國際半導體技術路線圖 （ITRS） 設定了清潔度的標準和未來目標。

超純水也用于制藥行業 - 產品完整性始終是最重要的考慮因素。制藥行業的行業標準規定，制藥用水中的溶解固體含量必須至少比標準飲用水中的溶解固體含量低 10,000 倍。基本上，飲用水不夠干凈，無法用于這些系統。對于制藥，它必須是完全不含有機物質和細菌的。

相同的標準品用于實驗室中使用的超純水，用于處理組織樣品、流式細胞術和熱原敏感應用。它還具有高電阻率，非常適合在實驗室環境中使用。但是，任何使用超純水系統的人都需要知道，離開系統的水已經真正準備好在所需的環境中使用。水污染物可能導致產量損失、危險的污染和破壞。

您是否在超純水系統適合您的環境中工作？如果是，那么您還應該投資購買優質的液體粒子計數器。

液體粒子計數器將監測您在設置中使用的超純水，以確保它真正達到您的需要，以保持您的超純水系統所達到的標準。

例如，Vertex 50 具有市場上較高的 50 納米靈敏度，可實現真正的 50 納米檢測。它還為低錯誤計數率符合行業標準，同時具有創紀錄的經過驗證的清理時間，因此您可以在顆粒事故發生后快速恢復工作。這種粒子計數器的靈敏度使其成為半導體等受到高度監管的行業的理想選擇，在這些行業中，即使是最小的顆粒也會造成損害。